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      2. 釹鐵硼磁鐵X射線光譜儀

        發(fā)布時(shí)間:2024-03-01
        釹鐵硼磁鐵x射線光譜儀產(chǎn)品介紹
        釹鐵硼磁鐵x射線光譜儀由深圳市美程精密電子有限公司現(xiàn)貨銷售釹鐵硼磁鐵x射線光譜儀,xau系列熒光光譜儀是一機(jī)多用型光譜儀,應(yīng)用了核心efp算法和微光聚集技術(shù),既保留了測厚儀檢測微小樣品和凹槽的膜厚的性能,又可滿足微區(qū)rohs檢測及成分分析。
        性能優(yōu)勢:
        1.微小樣品檢測:*小測量面積0.03mm2(加長測量時(shí)間可小至0.01mm2)
        2.變焦裝置算法:可改變測量距離測量凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-30mm
        3.*的efp算法:li(3)-u(92)元素的涂鍍層,多層多元 素,甚至有同種元素在不同層也可*測量。
        4.*的解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限。
        5.高性能探測器:sdd硅漂移窗口面積25mm2探測器。
        6.x射線裝置:微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦裝置。
        一六儀器研制的測厚儀的光路交換裝置,讓x射線和可見光攝像同一垂直線,達(dá)到視覺與測試定位一體,且x光擴(kuò)散度??;與efp軟件配合達(dá)到對(duì)焦、變焦雙焦功能,實(shí)現(xiàn)高低、凹凸不平各種形狀樣品的測試;高集成的光路交換裝置與接收器的角度可縮小一倍,可以減少弧度傾斜放樣帶來的誤差,同時(shí)特征x射線可以穿透測試更厚的表層。
        *的efp算法
        *的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在alpha和fp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出efp核心算法,結(jié)合*的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子,可測試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。
        金屬鍍層膜厚儀價(jià)格:/home/news/data_detail/id/698692451.html
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