真空鍍碳儀是一個(gè)緊湊的,易于使用的鍍碳儀,主要用來給不導(dǎo)電的樣品鍍一層碳膜,用于掃描電鏡能譜分析的成熟的鍍碳儀之一。
真空鍍碳儀主要優(yōu)勢:
1、超高分辨膜厚監(jiān)測儀保證超高質(zhì)量可重復(fù)的鍍膜效果。
2、無油分子渦輪真空系統(tǒng)快速地使150mm樣品室達(dá)到要求的真空度。
3、無須水冷卻系統(tǒng),無須加熱或冷卻,制樣周期短,操作方便。
4、反饋控制可以得到均勻一致鍍厚,電壓控制的碳棒具有多次蒸發(fā)能力。
5、可選擇操作方法優(yōu)化鍍膜過程,繁忙條件下可進(jìn)行自動(dòng)蒸發(fā)控制。
6、超高真空條件下使用超純的碳棒獲得超高質(zhì)量鍍膜處理,特別適合tem(cs),stem和場發(fā)射電鏡系統(tǒng)。
真空鍍碳儀主要特性:
1、可選擇手動(dòng)或自動(dòng)方式操作。
2、*的受反饋控制的碳棒蒸發(fā)系統(tǒng)可以在膜厚大約20nm左右進(jìn)行多次蒸發(fā),無須切削或調(diào)整碳棒形狀。
3、可配備mtm-10高分辨膜厚監(jiān)控儀(選件)。分辨率優(yōu)于0.1nm。在15nm至25nm的碳膜厚度范圍內(nèi),重現(xiàn)性可優(yōu)于5%。
4、自動(dòng)模式下,蒸發(fā)源按程序設(shè)定的電壓和時(shí)間進(jìn)行噴鍍。手動(dòng)模式下,*的設(shè)計(jì)允許以脈沖或連續(xù)的方式操作,并通過旋鈕控制輸出電壓。
5、108cauto中使用的高純碳棒可以在高倍條件下得到高質(zhì)量的鍍膜效果。該鍍膜系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊,容易操作,抽真空周期短。選件mtm-10高分辨膜厚監(jiān)控儀可以精確地得到所需的碳膜厚度。
6、使用新型的蒸發(fā)裝置:電流和電壓通過磁控頭的傳感線監(jiān)控,蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制。該蒸發(fā)裝置使常規(guī)的碳棒具有優(yōu)良的穩(wěn)定性和重現(xiàn)性。功率消耗低,碳棒具有優(yōu)異的重新蒸鍍特性。蒸發(fā)源可以通過脈沖或連續(xù)的方式操作。