光學(xué)平臺廣泛運用于各個領(lǐng)域中，隨著*的設(shè)備和工藝的發(fā)展，使納米量級的測量成為可能。例如，變相光學(xué)干涉儀測量物體的表面粗糙度，目前可以達到1納米的分辨率。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，已生產(chǎn)出線寬在亞微米量級的集成電路，提出測量準確率小于50納米的精度要求，這樣的應(yīng)用對系統(tǒng)中不同元件相關(guān)配合精度和穩(wěn)定性提出了的要求。
例如用顯微鏡對圖像進行高度放大的成像系統(tǒng)，顯微鏡和照像物鏡共同決定了相紙上每點的圖像。如果，在曝光過程中光學(xué)系統(tǒng)的每一部分（照明系統(tǒng)、樣品、顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)、成像光學(xué)系統(tǒng)和相紙平面）都精確地一同移動，不存在相對位移，成像也會很清晰。如果樣品相對物鏡產(chǎn)生了運動，則像就會模糊。在光學(xué)干涉測量、全息及運用相似的規(guī)律時，控制相對運動都是很重要的。
在一個理想的剛性體內(nèi)部（只在理論上存在），任何兩點的相對位置都是不變的。也就是說，在振動、靜力矩或溫度變化的情況下，任何實體的尺寸和形狀都是不變的。如果所有的元件都穩(wěn)固地連接成一個理想的剛性體，不同元件之間沒有相對位移，系統(tǒng)的性能也會很穩(wěn)固。理想的剛性體是不存在的?，F(xiàn)實中的系統(tǒng)只能近似的認為是剛性的，因此，其穩(wěn)定性就要受到多方面因素的影響。例如外界的振源，系統(tǒng)的重量，光學(xué)平臺的結(jié)構(gòu)等等