日前，美國勞倫斯利弗莫爾實驗室找到一種改進雙光子光刻的納米級3d打印技術(shù)，可以幫助醫(yī)生進行x射線ct掃描，分析人體內(nèi)的3d打印植入物。研究人員相信3d打印過程將有一天會被用來生產(chǎn)關(guān)鍵部件。
聚焦納米級3d打印 美發(fā)現(xiàn)改進雙光子光刻新方法
近日，勞倫斯利弗莫爾實驗室(llnl)的研究人員已經(jīng)找到了一種改進雙光子光刻(tpl)的方法，這是一種納米級3d打印技術(shù)。這項研究可以幫助醫(yī)生進行x射線ct掃描，分析人體內(nèi)的3d打印植入物。與大多數(shù)激光3d打印技術(shù)不同，其分辨率受3d打印機激光點的大小限制，雙光子光刻技術(shù)可將打印分辨率降至低。這是因為tpl使用光致抗蝕劑材料，其同時吸收兩個光子而不是一個光子。llnl的研究人員近通過對3d打印過程中使用的抗蝕劑材料進行研究，并有了一些重要的發(fā)現(xiàn)，找到了大幅度拓寬tpl功能的方法。他們的發(fā)現(xiàn)是將整個過程顛倒過來-將抗蝕劑材料直接應(yīng)用到鏡頭上，并將3d打印機的激光器通過抗蝕劑進行聚焦，可以打印出尺寸小于150納米但高度仍為幾毫米的三維微結(jié)構(gòu)。llnl研究員james oakdale說：“在本文中，我們解開了在雙光子光刻系統(tǒng)上定制材料而不會失去分辨率的秘密。”但這只是llnl團隊的研究項目的開始。研究人員還發(fā)現(xiàn)，除了通過翻轉(zhuǎn)部分3d打印系統(tǒng)大幅提高tpl的分辨率之外，他們還可以將3d打印過程中使用的光敏聚合物抗蝕劑的衰減提高10倍以上，增加(或減少)抗蝕劑能夠吸收的x射線。這是通過“折射率匹配”使得抗蝕劑材料的折射率與透鏡的浸入介質(zhì)匹配成為可能，從而允許3d打印機的激光以小的干擾通過。通過部署這種指數(shù)匹配技術(shù)，llnl團隊表示，tpl終可用于3d打印更大的部件，且具有小至100納米的特征。由于科學(xué)家們一直在尋找3d打印部件的佳方法，而且要求分辨率非常好，尺寸足夠大，功能性增加，這對于tpl拓展范圍可能會有很大的實際意義。該論文的作者sourabh saha說：“大多數(shù)希望使用雙光子光刻來打印功能性三維結(jié)構(gòu)的研究人員需要高于100微米的部件，通過這些匹配的抗蝕劑，您可以打印符合您要求高度的結(jié)構(gòu)。”saha承認，的限制就是tpl流程的速度。但是現(xiàn)在研究人員已經(jīng)掌握了如何修改和改進這個過程，他們有信心能夠“診斷和改進”這個過程。對于llnl研究人員來說，新調(diào)整的抗蝕劑x射線吸收能力還有另一個重要的連鎖效應(yīng)。通過制作吸收更多x射線的3d打印物體，研究人員理論上可以制作3d打印植入物，使用外部x射線ct掃描儀或其他成像設(shè)備可以更容易地檢查在人類身體中的3d打印植入物。由于3d打印植入物的調(diào)諧特性使其對ct掃描儀高度可見，因此醫(yī)生不需要移除這種植入物以查看是否具有例如內(nèi)部缺陷等問題。這些可調(diào)諧材料也有藥用之外的用途。研究人員說，優(yōu)化的tpl過程可用于建立(然后檢查)點火設(shè)施目標(biāo)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，llnl的大型激光慣性約束聚變(icf)研究裝置，可用于實現(xiàn)聚變點火。該過程的其他用途可以包括光學(xué)和機械超材料的3d打印和3d打印電化學(xué)電池。但是，現(xiàn)在的重點是通過并行化來加快打印過程，終實現(xiàn)更小的功能和更高的功能。研究人員相信3d打印過程將有一天會被用來生產(chǎn)關(guān)鍵部件。saha說：“這是我們解決的難題中的一小部分，但是我們現(xiàn)在更有信心開始在這個領(lǐng)域進行研究。我們在越來越大的結(jié)構(gòu)中推動越來越小的特征，使我們更接近世界其他地方正在進行的科學(xué)研究的前沿。而在應(yīng)用方面，我們正在開發(fā)新的實用打印方式。”據(jù)悉，該創(chuàng)新研究的結(jié)果已于近發(fā)表在“acs應(yīng)用材料和接口”雜志上。(原標(biāo)題：llnl開發(fā)出改進雙光子光刻(tpl)的新方法，可對3d打印植入物進行x射線掃描！)